无掩膜光刻机(科研型）

型号 DS-2000/14K

1．技术特征 采用DMD作为数字掩模，像素1024×768

采用1倍缩小投影光刻物镜成像，一次曝光面积约1mm×0.75mm

采用创新技术——积木错位蝇眼透镜实现均明。

采用进口精密光栅、进口电机、进口导轨、进口丝杠实现精确工件定位和曝光拼接，

可适应100mm×100mm基片。

2．技术参数

光源：350W球形汞灯（曝光谱线： i线）；

照明均匀性：±2%； 物镜倍率：1倍

曝光场面积：14mm×10mm 光刻分辨力：14μm

工件台运动范围：X：100mm、 Y：100mm；

工件台运动定位精度：±1.5μm；

调焦台运动灵敏度：1μm；

调焦台运动行程：6mm 转动台行程：±6°以上

基片尺寸外径: Ф15mm—Ф100mm，

厚度：0.1mm.5mm

3．外形尺寸：840mm（长）×450mm(宽) ×830mm（高）

无掩模光刻机系统关键技术：曝光光学系统、光匀化技术、图形发生器、投影物镜、对焦系统、对准系统、精密工件台、步进拼接、控制软件等