URE-2000/A12大面积自动光刻机

产品技术特征

l、曝光波长采用纯净365nm，冷光照明（曝光面能量大于10mW/cm，温度小于30℃）；

2、采用1000W进口（德国欧司朗直流汞灯，光能量密度可调）；

3、采用创新技术——积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应实现均匀照明；

4、采用自动控制的自动找平方式，无论大片、小片、非标片均可实现高精度调平；

5、自动分离对准间隙和消除曝光间隙；

6、高倍率显微镜和22英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程；既可通过显微镜目镜观察对准，也可通过“CCD+显示器”观察对准，不仅可满足高精度对准功能，又可用于检测曝光结果；

7、电机机构、弹性元件和传感器保证接触曝光压力合适且重复性好；

8、对准完成自动消除曝光间隙，无横向漂移且可通过监视器观察；

9、快门可以单独开启，也可以数字设定自动倒计时曝光（设定范围0.1s-999.9s）；

10、设备外形美观精制，性能非常可靠；设备主体材料经过防锈处理，经久耐用；

11、可数字设定对准间隙和曝光间隙；

12、上下片、版十分方便，自动化程度高，操作简便；

二、设备主要技术指标：

(1)曝光面积：300mm×300mm可兼容；

（2）分辨力：2μm；

（3）对准精度：±2μm；

（4）掩模尺寸：7英寸、9英寸、13英寸；

（5）样片尺寸：6英寸、8英寸、12英寸；

（6）wafer chuck表面：防止光反射涂层；

（7）掩模样片整体运动范围：X：10mm;Y:10mm；

（8）掩模相对于样片运动行程：X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6°；

（9）汞灯功率：1000W（直流）；

（10）曝光能量密度：≥ 10mW/cm；

（11）曝光峰值波长:365nm；

（12）光源平行度：＜2°；

（13）曝光方式：定时（倒计时方式0.1s—9999.9s）；

（14）光刻版夹具兼容性；

应用领域

集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻，波导阵列光刻、液晶显示声表器件、平板显示器、大尺寸光栅、码盘刻划等。