匀胶显影机

型号CKF-121

净化匀胶显影机是适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合半导体大型晶圆硅片,芯片,晶片,等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀胶。是集成电路及半导体件生产过程中涂复光致抗腐蚀剂的专用设备

设备中涂胶部分四个工位单片微型机控制四个工位同时工作或分别工作，即各工位的运转单独传动，转数单独调节及单独显示。

为保证在涂胶工艺中不飞片，设备中吸头和气泵中间有四个电磁阀，同时增加一个负压储气罐，保证了吸片牢固和可靠性。

设备中配有专用的空气净化装置。

主要技术指标：

主要技术指标
显影工位： 一个操作工位
程序时间： 显影1—99秒 漂洗1—99秒 干燥1—99秒
旋转器转数： 500—8000转/分（连续可调）
硅片直径： Φ30—Φ75mm
净化效果：美国联邦标准100级净化
操作区风速： 0.3—0.5米/秒
气流状态： 垂直层流
外形尺寸： 650Χ750Χ1620mm

1．控制范围和精度：转速控制范围为：500-8000转，精度为±3%

2.时间控制范围为：1-99秒，精度为±5%

3．转速调整采用高精度D/A转换，具有128级的精度调谐。

4．转速查看智能化。（自动识别哪个电机开或关）自动转换到开启的电机上。可予先选定，也可在运行中随时查看任一电机的转速。

5．采用先进的I2C总线技术和E2PRAM数字存储器，可预存10组工艺参数（匀胶机A型机可予存10个延时时间，40个电机转速参数。B型机可予存20个时间参数，80个转速参数；显影机可保存9个慢启动参数，30个时间，30个转速参数）。保存的参数掉电10年不丢失。调整后的参数自动保存，简化了操作。

6．具有全自动智能控制功能，当使用全自动方式时只需放好工件，然后按一下ATART（开始）键，吸盘自动打开，定时工作完成后延时6秒电机停稳后自动关闭吸盘，喇叭鸣三声，提示完成工作。大大的提高了工作效率。

7．定时的时间和转速的测量全部由软件控制，定时部分采用倒计时的方式显示，转速测量部分直接显示被测电机的每分钟转数。调整部分由软件和D/A转换器控制，去掉了原使用CMOS电路采用的拨盘开关和机械电位器的机械触点。在原基础上增加了全自动功能，减少了操作程序，避免了频繁的开关面板上的按键开关，大大的降低了按键开关因频繁使用而损坏。提高了整机的可靠性和使用寿命。调整，启动，切换，停止，并有提示音。