欢迎访问中国.鑫有研电子科技有限公司官方网站!
全国服务: 13761297466
上海:021-51089942
北京: 010-59797246
位置:首页 > 光刻机系列
台式光刻机(教学型号)图文展示
发表时间:2020-05-20     阅读次数:

台式光刻机

型号:USE-30R

(标准教学型))

简单介绍:光刻机:(英文名:Mask ALIGENER)又名曝光机, 该型号光刻机创新采用采用双目双视场显微镜对准;球碗调平,单片机控制,触摸开关,操作方便、实用性强。整机具有性能可靠、操作方便等特点。

一.技术特征

1、采用国内独创的多点梯形反射镜聚光和实现均匀照明,具有高的能量收集率和高均匀性照明性;

2、采用进口直流高压汞灯,光功率稳定;

3、采用i线(365nm)紫外曝光光源,波长单一,光谱纯净;

4、高倍率双目双视场CCD显微镜和22英寸宽屏液晶,可同时观察对准过程,适用大视场高倍率对准;

5、采用薄膜开关操作,数字设定曝光时间,倒计时数显,曝光量可精确控制;

6、配置无油真空泵,无污染,噪音小;

7、关键器件采用进口国际品牌产品,整机可靠性高。

二.技术参数

1、曝光面积:120mm×120mm

2、曝光波长:365nm(纯净光源)

2、分辨力: 1.5μm

3、对准精度::± 1μm

4、掩模样片整体运动范围:X:6mm;Y:6mm Z:6mm

5、掩模尺寸:2.5寸、3寸、4寸、5寸

6、直径Ф15mm--Ф120mm、厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm);

7、照明均匀性:±5%

9、掩模相对于样片运动行程: X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6度

10、汞灯功率:200W(直流、德国欧司朗) 或(直流、日本USHIO)

11、曝光量设定:定时曝光 定时(到计时方式 0.1s-9999.9s任意设定、设定精度0.1s)

12、双目双视场显微镜:物镜三队:4X、10X、20X,目镜三对:10X、16X、20X

13、放大倍数,光学400X,电子800X

应用领域

集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻,波导阵列光刻、液晶显示声表器件、平板显示器、大尺寸光栅、码盘刻划等

上一篇:URE-2000S/25型双面光刻机
下一篇:无掩膜数字光刻机(工业型)

官方网址

微信公众号
上海办公室
地    址:上海市普陀区金迈路1号上海陆交中心大厦411室  
联系人:周经理
手 机:18616884288
电 话:021-51089942 51863098
传    真:021-51564099
邮    箱:siyouyen@163.com  

北京办公室
地 址:北京市房山区月华大街1号盛通广场8楼
联系人:曹经理
手 机:15201545018
电 话:010-59797246 59795046
传 真:010-52282969
邮 箱:siyouyen@126.com

Copyright  ©  2020-2030   中国.鑫有研电子科技有限公司  All Rights Reserved.   腾云建站仅向商家提供技术服务 网站地图 备案号:沪ICP备16030867号-3